Durch die stetige Miniaturisierung von Schaltstrukturen für die moderne Unterhaltungselektronik gewinnt die Vermeidung von Partikelkontamination in der Halbleiterindustrie zunehmend an Bedeutung: jedes Partikel von der Größe der Maskenstruktur kann potentiell "printen" und somit viele Wafer schädigen. Zur Vorhersage der Kontaminationsunterdrückung sollen CFD Berechnungen durchgeführt werden. Die Ergebnisse sollen unserem Partner Carl Zeiss SMT ein besseres Verständnis der Strömungen in Litho- graphie-Optiken liefern und bilden zusammen mit Messungen die Basis zur Adaptierung der theoretischen Modelle an reale Bedingungen in einem EUV Scanner.    «

Durch die stetige Miniaturisierung von Schaltstrukturen für die moderne Unterhaltungselektronik gewinnt die Vermeidung von Partikelkontamination in der Halbleiterindustrie zunehmend an Bedeutung: jedes Partikel von der Größe der Maskenstruktur kann potentiell "printen" und somit viele Wafer schädigen. Zur Vorhersage der Kontaminationsunterdrückung sollen CFD Berechnungen durchgeführt werden. Die Ergebnisse sollen unserem Partner Carl Zeiss SMT ein besseres Verständnis der Strömungen in Litho- gr...    »