@manual{
	titlea = "Prof.",
	vornamea = "Jochen",
	namea = "Schein",
	departmenta = "Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik",
	institutea = "EIT 1 - Institut für Plasmatechnik und Mathematik",
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	external-funds = "AIF",
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	project-title = "Entwicklung eines Plasmaprozesses mit gepulstem Stromverlauf und angepasster Spritzwerkstoffzufuhr",
	project-abstract = "Beim Plasmaspritzen setzen KMU aufgrund ihrer Kostengünstigkeit vorwiegend Ein-Kathoden-ein-Anoden-Plasmageneratoren (EKEAP) ein. Durch die Bewegung des Anodenansatzes beim EKEAP verkürzt und verlängert sich der Lichtbogen statistisch verteilt, so dass Fluktuationen des sich außerhalb des Generators befindlichen heißen Gasjets resultieren. Aufgrund der Fluktuationen resultiert eine verringerte Schichtqualität. Mehrlichtbogensysteme mit fixiertem Anodensatz weisen diese Probleme nicht auf, stellen allerdings aufgrund ihrer Kostenintensität meist eine zu hohe Investitionshürde für KMU dar. Ziel dieses Forschungsantrags ist es, das Plasmaspritzen mit EKEAP auf kostengünstige Weise durch Einsatz einer steuerbaren Stromquelle für KMU so zu verbessern, dass ebenso eine gleichmäßige Partikel-Gasjet-Wechselwirkung wie bei Mehrlichtbogensystemen resultiert. Aufgrund der Prozessverbesserung sollten sowohl Lohnbeschichter und Spritzsystemanbieter als auch Stromquellenhersteller aufgrund verbesserter Wettbewerbsfähigkeit und erhöhtem Angebot profitieren.",
	proj-beginn = "01.12.2015",
	proj-end = "30.11.2017",
	forschungszentrum = ""
}