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Autoren:

Maguire, Pierce; Jadwiszczak, Jakub; O´Brien, Maria; Keane, Darragh; Duesberg, Georg S.; McEvoy, Niall; Zhang, Hongzhou

Dokumenttyp:

Zeitschriftenartikel / Journal Article

Titel:

Defect-moderated oxidative etching of MoS₂

Zeitschrift:

Journal of Applied Physics

Jahrgang:

126

Heftnummer:

16

Jahr:

2019

Sprache:

Englisch

Article-ID:

164301

DOI:

10.1063/1.5115036

URL zum Inhalt:

https://doi.org/10.1063/1.5115036

Fakultät:

Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik

Institut:

EIT 2 - Institut für Physik

Professur:

Düsberg, Georg

Open Access ja oder nein?:

Nein / No

Vorkommen:

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